電子光學(xué)行業(yè)如大規(guī)模集成電路（LSI）、超大規(guī)模集成電路（VLSI）等微電子（IC）工廠；液晶顯示器（LCD）、彩色薄膜液晶顯示器（TFT-LCD）、等離子顯示器（PDP）以及發(fā)光二極管（LED）、有機電致發(fā)光顯示器（OLED）、高分子有機電致發(fā)光顯示器（PLED）等光電子工廠都離不開潔凈的生產(chǎn)環(huán)境。生產(chǎn)所要求的環(huán)境不僅僅有：建筑圍護、結(jié)構(gòu)、空氣、水、氣體以及溶劑等原材料，而且還有聲、光、電、磁、振等各種環(huán)境。例如：建筑的形式和層高、結(jié)構(gòu)的承重、圍護結(jié)構(gòu)的裝修材料；環(huán)境空氣的潔凈度、溫、濕度、壓力梯度、空氣中對工藝有害的化學(xué)分子；水和氣體的純度、粒子濃度、重金屬的含量以及環(huán)境的噪聲、照度、靜電、電磁屏蔽、微振等等。

● 凈：電子光學(xué)行業(yè)，尤其是微電子（IC）前工序和光電子（TFT-LCD）前工序的潔凈室對環(huán)境潔凈度的要求越來越凈。例如，12吋園片超大規(guī)模集成電路前工序光刻間的潔凈度要求高達1級（0.1?m）也就是每立方英尺空氣中≥0.1 ?m的粒子數(shù)不能超過1顆,相當(dāng)于ISO 1級。特別重要的是它對環(huán)境空氣提出了去除分子污染（SO2 , Nox , VOC ,NH3等）的要求。

 ● 精：電子行業(yè)生產(chǎn)工藝對環(huán)境空氣溫、濕度的控制精度要求越來越精。還以上述微電子的光刻間為例：其溫度精度為±0.1℃，相對濕度的精度為±3%。

 ● 純：大規(guī)模集成電路前工序?qū)ιa(chǎn)用的高純水、高純氣體以及高純?nèi)軇┑募兌纫笤絹碓郊儭＠纾簩Ω呒兯裕粌H對其電阻率有要求，而且對高純水中所含粒子、細菌、重金屬以及其他元素的離子成份都有嚴(yán)格的要求，隨著生產(chǎn)工藝的發(fā)展，對其純度的要求也越來越高。可謂純之又純。

 ● 嚴(yán)：電子工業(yè)生產(chǎn)不僅對環(huán)境的潔凈度，溫、濕度有嚴(yán)格的要求，同時對環(huán)境的聲（噪聲）、光（照度）、電（靜電）、磁（電磁場屏蔽）、振（微振）等都有嚴(yán)格的要求。尤其微電子生產(chǎn)，對環(huán)境的分子級污染提出了新的嚴(yán)格的要求。分子污染是指環(huán)境空氣中要嚴(yán)格控制例如鈉（Na）元素、碳（COx）元素、硫（SOx）元素、（NOx）元素等對半導(dǎo)體工藝有害的元素。因此在處理空氣時還要用淋水（淋自來水、淋純凈水）來吸收室外空氣中的有害分子成份和用化學(xué)過濾器來吸附新風(fēng)中的有害分子成份。

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